掃描電子顯微鏡制樣
本專題涉及掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)有98條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，掃描電子顯微鏡制樣涉及到分析化學(xué)、光學(xué)設(shè)備、光學(xué)和光學(xué)測量、詞匯、建筑材料、教育、有色金屬、長度和角度測量、陶瓷、空氣質(zhì)量、表面處理和鍍涂、犯罪行為防范、熱力學(xué)和溫度測量、電子顯示器件。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，掃描電子顯微鏡制樣涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、石油地質(zhì)勘探、石油勘探、開發(fā)與集輸工程綜合、電磁計(jì)量、技術(shù)管理、教學(xué)專用儀器、檢驗(yàn)專用設(shè)備、化學(xué)計(jì)量、油頁巖、記錄儀器及光線示波器、光學(xué)設(shè)備、教育、學(xué)位、學(xué)銜、放大鏡與顯微鏡、特種陶瓷、、犯罪鑒定技術(shù)、材料防護(hù)。
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 33834-2017 微束分析 掃描電子顯微術(shù) 生物試樣掃描電子顯微鏡分析方法
- GB/T 18295-2001 油氣儲層砂巖樣品 掃描電子顯微鏡分析方法
國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- ISO/TS 21383:2021 微束分析.掃描電子顯微鏡.定量測量用掃描電子顯微鏡的鑒定
- ISO 22493:2008 微光束分析.掃描電子顯微鏡方法.詞匯
- ISO 16700:2004 微電子束分析.掃描電子顯微鏡.校準(zhǔn)圖像放大指南
- ISO 16700:2016 微電子束分析.掃描電子顯微鏡.校準(zhǔn)圖像放大指南
- ISO 9220:2022 金屬涂層.涂層厚度的測量.掃描電子顯微鏡法
- ISO 9220:1988 金屬覆蓋層 鍍層厚度測量 掃描電子顯微鏡法
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- JIS K 0132:1997 掃描電子顯微鏡總則
- JIS R 1633:1998 掃描電子顯微鏡觀察用精細(xì)陶瓷和陶瓷粉末的樣品制備方法
- JIS K 3850-1:2006 空中纖維分子的測定.第1部分:光學(xué)顯微鏡法和掃描電子顯微鏡法
- JIS K 3850-1:2000 空氣中纖維粒子的測量方法.第1部分:光學(xué)顯微鏡法和掃描電子顯微鏡法
- JIS K 0149-1:2008 微光束分析.掃描電子顯微鏡法.校準(zhǔn)圖像放大指南
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-石油，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- SY/T 5162-2021 巖石樣品掃描電子顯微鏡分析方法
- SY/T 5162-2014 巖石樣品掃描電子顯微鏡分析方法
- SY/T 5162-1997 巖石樣品掃描電子顯微鏡分析方法
- SY 5162-2014 巖石樣品掃描電子顯微鏡分析方法
國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- JJF 1916-2021 掃描電子顯微鏡校準(zhǔn)規(guī)范
- JJF 1351-2012 掃描探針顯微鏡校準(zhǔn)規(guī)范
國家計(jì)量檢定規(guī)程，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- JJG(教委) 11-1992 掃描電子顯微鏡檢定規(guī)程
- JJG 550-1988 掃描電子顯微鏡試行檢定規(guī)程
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-機(jī)械，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- JB/T 5384-1991 掃描電子顯微鏡.技術(shù)條件
- JB/T 6842-1993 掃描電子顯微鏡試驗(yàn)方法
巴林國家計(jì)量局，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- BH GSO ISO 22493:2017 微束分析 掃描電子顯微鏡 詞匯
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 22493:2008 微束分析 掃描電子顯微鏡 詞匯
- 18/30319114 DC BS ISO 20171 微束分析 掃描電子顯微鏡 用于掃描電子顯微鏡（TIFF/SEM）的標(biāo)記圖像文件格式
- 06/30128226 DC ISO 22493 微束分析 掃描電子顯微鏡 詞匯
- 13/30203227 DC BS ISO 13083 表面化學(xué)分析 掃描探針顯微鏡 掃描擴(kuò)散電阻顯微鏡和掃描電容顯微鏡的空間分辨率定義和校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 16700:2004 微電子束分析.掃描電子顯微鏡.圖像放大校準(zhǔn)指南
- BS EN ISO 9220:1989 金屬鍍層.鍍層厚度測量.掃描電子顯微鏡法
- BS ISO 21466:2019 微束分析 掃描電子顯微鏡 CDSEM評估關(guān)鍵尺寸的方法
- BS ISO 16700:2016 微束分析 掃描電子顯微鏡 校準(zhǔn)圖像放大率的指南
- BS EN ISO 9220:1995 金屬涂層 涂層厚度的測量 掃描電子顯微鏡法
- BS EN ISO 9220:2022 金屬涂層 涂層厚度的測量 掃描電子顯微鏡法
韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 22493-2012(2017) 微束分析掃描電子顯微鏡詞匯
- KS D ISO 22493:2022 微束分析.掃描電子顯微鏡.詞匯
- KS D ISO 22493-2022 微束分析.掃描電子顯微鏡.詞匯
- KS I 0051-2019 掃描電子顯微鏡的一般規(guī)則
- KS M 0044-1999 掃描電子顯微鏡的一般規(guī)則
- KS I 0051-1999(2019) 掃描電子顯微鏡的一般規(guī)則
- KS D ISO 22493:2012 微光束分析.掃描電子顯微鏡.術(shù)語
- KS I 0051-1999 掃描電子顯微鏡試驗(yàn)方法通則
- KS D 2714-2016(2021) 掃描探針顯微鏡－側(cè)向力顯微鏡法
- KS D 2714-2016 橫向力顯微鏡掃描探針顯微鏡方法
- KS D 2714-2021 掃描探針顯微鏡 側(cè)向力顯微鏡方法
- KS D ISO 16700:2013 微電子束分析.掃描電子顯微鏡.校準(zhǔn)圖像放大指南
- KS D ISO 16700-2023 微束分析掃描電子顯微鏡圖像放大率校準(zhǔn)指南
- KS D ISO 16700-2013(2018) 微束分析－掃描電子顯微鏡－圖像放大率校準(zhǔn)指南
- KS D ISO 9220:2009 金屬覆蓋層.鍍層厚度測量.掃描電子顯微鏡法
- KS D ISO 9220-2009(2017) 金屬鍍層鍍層厚度的測量掃描電子顯微鏡法
- KS D ISO 9220-2009(2022) 金屬鍍層鍍層厚度的測量掃描電子顯微鏡法
- KS D ISO 9220-2022 金屬涂層 涂層厚度的測量 掃描電子顯微鏡法
海灣阿拉伯國家合作委員會標(biāo)準(zhǔn)組織，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- GSO ISO 22493:2015 微束分析 掃描電子顯微鏡 詞匯
- GSO ISO 25498:2015 微束分析 分析掃描電子顯微鏡 使用透射電子顯微鏡進(jìn)行選區(qū)電子衍射分析
- GSO ISO/TS 24597:2013 微束分析 掃描電子顯微鏡 圖像清晰度評價(jià)方法
- GSO ISO 9220:2013 金屬涂層 涂層厚度測量 掃描電子顯微鏡法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-教育，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- JY/T 0584-2020 掃描電子顯微鏡分析方法通則
- JY/T 010-1996 分析型掃描電子顯微鏡方法通則
美國材料與試驗(yàn)協(xié)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- ASTM E766-98(2003) 校準(zhǔn)掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)
- ASTM E766-98 校準(zhǔn)掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)
- ASTM E2382-04(2020) 掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡中的掃描儀和尖端相關(guān)人工標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E2382-04 掃描隧道顯微鏡學(xué)和原子力顯微鏡學(xué)中掃描器和與觸點(diǎn)相關(guān)物品的指南
- ASTM E2382-04(2012) 掃描隧道顯微鏡學(xué)和原子力顯微鏡學(xué)中掃描器和與觸點(diǎn)相關(guān)物品的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E986-04(2017) 掃描電子顯微鏡光束尺寸表征的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
- ASTM E986-97 掃描電子顯微鏡光束尺寸表征的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
- ASTM E766-14 掃描電子顯微鏡放大倍率校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)方法
- ASTM E986-04(2010) 掃描電子顯微鏡射束尺寸特征描述標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
- ASTM E986-04 掃描電子顯微鏡射束尺寸特征描述標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
- ASTM E986-04(2024) 掃描電子顯微鏡光束尺寸表征的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
- ASTM E766-98(2008)e1 掃描電子顯微鏡的放大系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)校正規(guī)范
上海市標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- DB31/T 297-2003 掃描電子顯微鏡放大倍率校準(zhǔn)方法
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- NF X21-005:2006 微電子束分析.掃描電子顯微鏡.校準(zhǔn)圖像放大指南
- XP ISO/TS 24597:2011 微束分析 - 掃描電子顯微鏡 - 評估圖像清晰度的方法
- XP X21-015*XP ISO/TS 24597:2011 微束分析 掃描電子顯微鏡 評價(jià)圖像清晰度的方法
- NF A91-108*NF EN ISO 9220:2022 金屬鍍層 鍍層厚度的測量 掃描電子顯微鏡法
- NF EN ISO 9220:2022 金屬涂層.涂層厚度的測量.掃描電子顯微鏡法
- NF A91-108:1995 金屬鍍層.鍍層厚度的測量.掃描電子顯微鏡法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗(yàn)，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- SN/T 4388-2015 皮革鑒定 掃描電鏡和光學(xué)顯微鏡法
中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- T/SPSTS 032-2023 掃描電化學(xué)顯微鏡通用規(guī)范
- T/QGCML 1940-2023 掃描電子顯微鏡原位高溫力學(xué)測試裝置
- T/SPSTS 030-2023 石墨烯材料 片徑尺寸測量 掃描電子顯微鏡法
瑞典標(biāo)準(zhǔn)研究所，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- SS-ISO 9220:1989 金屬覆蓋層厚度測量掃描電子顯微鏡法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-司法，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- SF/T 0139-2023 泥土檢驗(yàn) 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法
美國給水工程協(xié)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- AWWA ACE56156 使用平板掃描儀和掃描電子顯微鏡評估膜表面污染模式
江蘇省標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- DB32/T 3459-2018 石墨烯薄膜微區(qū)覆蓋度測試 掃描電子顯微鏡法
意大利統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- UNI EN ISO 9220:1998 金屬涂層 涂層厚度測量 掃描電子顯微鏡法
- UNI ISO 9220:1990 金屬覆層 覆層厚度測量 掃描電子顯微鏡方法
德國機(jī)械工程師協(xié)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- VDI 3866 BLATT 5-2015 技術(shù)產(chǎn)品中石棉的測定掃描電子顯微鏡法
- VDI 3866 BLATT 5-2017 工業(yè)產(chǎn)品中石棉的測定掃描電子顯微鏡法
- VDI 3866 Blatt 5-2003 工業(yè)產(chǎn)品中石棉的測定掃描電子顯微鏡法
丹麥標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- DANSK DS/ISO 9220:2022 金屬涂層 涂層厚度測量 掃描電子顯微鏡法
- DS/EN ISO 9220:1995 金屬鍍層 鍍層厚度的測量 掃描電子顯微鏡法
阿曼規(guī)格和計(jì)量局，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- OS GSO ISO/TS 24597:2013 微束分析 掃描電子顯微鏡 評估圖像清晰度的方法
SE-SIS，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- SIS SS CECC 00013-1985 基本規(guī)范．半導(dǎo)體芯片的掃描電子顯微鏡觀察
- SIS SS-ISO 9220:1989 金屬涂層．涂層厚度測量．掃描電子顯微鏡方法
俄羅斯標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- GOST R 8.594-2009 確保測量一致性的國家體系.掃描電子顯微鏡
歐洲標(biāo)準(zhǔn)化委員會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- EN ISO 9220:2022 金屬覆蓋層.鍍層厚度測量.掃描電子顯微鏡法
德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會，關(guān)于掃描電子顯微鏡制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- DIN EN ISO 9220:2022-05 金屬涂層-涂層厚度的測量-掃描電子顯微鏡法
