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GB/T 43798-2024
平板顯示陣列用正性光阻材料測試方法

Test method for positive photoresist materials for flat panel display arrays

GBT43798-2024, GB43798-2024


標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
GB/T 43798-2024
別名
GBT43798-2024, GB43798-2024
發(fā)布
2024年
總頁數(shù)
19頁
發(fā)布單位
國家質(zhì)檢總局
當(dāng)前最新
GB/T 43798-2024
 
 
引用標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 23942 GB/T 25915.1 GB/T 33087 GB/T 37403 GB/T 39486
適用范圍
本文件描述了平板顯示陣列用正性光阻材料的測試方法。 本文件適用于液晶顯示器件、有機(jī)發(fā)光顯示器件等顯示陣列制造用正性光阻材料的性能測試。
術(shù)語描述
曝光量
exposure energy
光阻材料單位面積吸收光能或其他輻照能的劑量,用于衡量光阻材料對曝光的敏感程度。
基底片
substrate
用于光阻材料涂布的襯底材料,可以是單晶硅片、外延硅片或平板顯示用玻璃片等。

GB/T 43798-2024 中提到的儀器設(shè)備

涂布烘烤機(jī)
具備旋轉(zhuǎn)涂布或刮涂涂布方式,溫度范圍 40~200°C
用于正性光阻材料的涂布和前烘工藝。
膜厚測定儀
測量范圍不小于 3μm,精度要求 1nm
用于測量基底片上光阻材料的膜厚。

GB/T 43798-2024相似標(biāo)準(zhǔn)





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